对於故障分析而言,微光显微镜(Emission Microscope, EMMI)是一种相当有用且效率极高的分析工具。 其基本原理是可侦测非常微小的光放射,主要侦测IC内部所放出光子。 在IC 元件中,EHP(Electron Hole Pairs) Recombination会放出光子(Photon)。 PEM 就是将显微镜(OM) 加上影像撷取系统,且能接收较大的波长范围 (500nm - 1500nm),他的光学系统是 PEM设备上决定其设备性能的关键 高的数值孔径(numerical aperture, NA): 长焦距镜头(high working distance, WD) …

微光显微镜（Emission Microscope, EMMI）是利用高增益相机/探测器来检测由某些半导体器件缺陷/失效发出的微量光子的一种设备。 金鉴实验室凭借其先进的EMMI设备，能够精准捕捉半导体器件缺陷/失效发出的微量光子。

emmi是一种极其灵敏的显微镜，其光谱能从可见光区延伸到红外光区，并能捕捉到微弱的荧光。 通过将捕捉到的荧光图片与芯片照片重合便能确定荧光产生的位置。

EMMI (Emission Microscopy)是用來做故障點定位、尋找亮點、熱點(hot spot)的工具。 其具備高靈敏度的制冷式電荷(光)耦合元件(C-CCD)偵測器，可偵測元件中電子－電洞再結合時所發射出來的光子，其光波長在 350 nm ~ 1100 nm，此範圍相當於可見光和紅外光區。

在半导体故障失效分析的过程中，光发射显微镜（emmi）是一种关键的故障点定位工具。 这种设备通过检测电子-空穴复合和热载流子释放的光子，帮助识别半导体元件中的缺陷。

光束诱导电阻变化 (OBIRCH)功能与光发射 (EMMI)常见集成在一个检测系统，合称PEM (Photo Emission Microscope)，两者互为补充，能够很好的应对绝大多数失效模式。 会产生亮点的缺陷：1.漏电结；2.解除毛刺；3.热电子效应；4闩锁效应； 5氧化层漏电；6多晶硅须；7衬底损失；8.物理损伤等。 侦测不到亮点之情况 不会出现亮点之故障：1.亮点位置被挡到或遮蔽的情形（埋入式的接面及 大面积金属线底下的漏电位置）；2.欧姆接触；3.金属互联短路；4.表面 反型 …

2024年10月8日 · EMMI（Electro-Magnetic Induced Emission）是一种光致发光显微镜技术，主要用于检测半导体器件中的电气异常。 EMMI基于这样一个原理：当 电流 通过半导体器件中的某些故障点时，这些点会发射出与正常运行状态不同的光。

2022年9月7日 · emmi是一种极其灵敏的显微镜，其光谱能从可见光区延伸到红外光区，并能捕捉到微弱的荧光。 通过将捕捉到的荧光图片与芯片照片重合便能确定荧光产生的位置。

2023年6月12日 · 微光显微镜emmi可广泛应用于侦测各种芯片组件缺陷所产生的漏电流，包括闸极氧化层缺陷、静电放电破坏、闩锁效应、漏电、接面漏电 、顺向偏压及在饱和区域操作的晶体管，可藉由emmi定位，找热点或找亮点)位置，进而得知缺陷原因，宜特

2023年2月3日 · 微光显微镜（EMMI）和光诱导电阻变化（OBIRCH）常见集成在一个检测系统，合称PEM（Photo Emission Microscope），两者互为补充，能够很好的应对绝大多数失效模式，比如检测细微漏电，快速失效定位。