芯片制造·从Mask开始说起 - 知乎 - 知乎专栏
为了防止图形面沾染灰尘，Mask上会罩一层透明薄膜 (Pellicle)，即使有灰尘落上去，由于灰尘不在曝光焦平面，因此不会影响实际的曝光图形。 Mask曝光示意图，来自网络
Photomask - Wikipedia
A photomask (also simply called a mask) is an opaque plate with transparent areas that allow light to shine through in a defined pattern. Photomasks are commonly used in photolithography for …
芯片产业 - 常见流程和术语_芯片mask-CSDN博客
2022年5月10日 · Full Mask是“全掩膜”的意思，即制造流程中的全部掩膜都为某个设计服务. MPW(MulTI-Project Wafer, 多项目晶圆)，是将多个具有相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆 …
流片需要经历哪些过程，为什么贵，为什么正式生产就便宜了？MASK …
MPW(Multi Project Wafer), 前期设计研发阶段多选用这种模式， 因为测试目的的话，不需要上万颗芯片，只需要少量芯片即可，而且设计在早期阶段，改动幅度通常是较大的，并且是从FEOL( …
流片方式——Full Mask/MPW - CSDN博客
2024年8月16日 · 一种流片方式，MPW全称为Multi Project Wafer，即多项目晶源，有别于Full Mask，即在一次制造流程中整个掩膜为多个设计项目服务，也即同一次制造流程可以承担多 …
光罩（Mask）——集成电路制造的核心工具 - 知乎
光罩（Mask），又称掩膜版，是在集成电路（IC）制造过程中用于将设计好的电路图案精确转移到晶圆表面的核心工具。 作为光刻技术的基础元件，光罩的质量直接决定了芯片的精度、性能 …
半导体芯片的设计流片、验证、成本的详解； - 知乎专栏
Full Mask是“全掩膜”的意思，即制造流程中的全部掩膜都为某个设计服务；而MPW 全称为Multi Project Wafer，直译为多项目晶圆，即多个项目共享某个晶圆，也即同一次制造流程可以承担 …
光掩膜:在半導體製造的整個流程中，其中一部分就是從版圖到晶圓（wafer …
光罩（英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似於沖...
光掩膜(mask)制造流程和检测流程及其他资料整理 - Wafer …
光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有称为中间掩膜，reticle作为单位译为光栅)，用步进机重复将比例缩小到master maks上，应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask)，工作掩膜 …
光刻掩膜版设计与加工指南 - USTC
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask/Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将 …