The TBS protecting group protects alcohols in organic synthesis, and is deprotected with fluoride anions (e.g., TBAF) or strong acids. This bulky silyl PG is resilient, allowing for selective/ orthogonal deprotection of similar groups like TMS.

2021年2月26日 · TBS（TBDMS, 叔丁基二甲基），TBS基团是有机合成中常见的基团，利用TBS保护羟基的方法比较常见，下面介绍一下通过生成叔丁基二甲基硅酯，保护羧基的方法。 上保护： 一、TBSCl，咪唑，DMF，室温，48h，产率88%。 【J. Am. Chem. Soc., 94, 6190 (1972)】 二、吗啉，TBSCl，THF，室温，2min，收率80%。 【Synthesis，701（1989）】 三、t-BuMe2SiH, Pd/C, 苯，70℃。 【Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 2111 (1989)】 去保护： 一 …

THF中可以加些水（几滴），可加快脱保护速度。 根据文献描述，用四丁基氟化铵脱除叔丁基二甲基硅基（TBS），两者摩尔比约1:1，溶剂为THF，常温反应1小时。 可是核磁结果显示，硅醚保护基没有脱除，基本不反应，这是为什么？ 文献都说这是个定量反应，很容易进行的啊。 求做过类似实验的人指教，谢谢啦！

2022年2月23日 · TBS（TBDMS, 叔丁基二甲基），TBS基团是有机合成中常见的基团，利用TBS保护羟基的方法比较常见，下面介绍一下通过生成叔丁基二甲基硅酯，保护羧基的方法。 一、TBSCl，咪唑，DMF，室温，48h，产率88%。 【J. Am. Chem. Soc., 94, 6190 (1972)】 二、吗啉，TBSCl，THF，室温，2min，收率80%。 【Synthesis，701（1989）】 三、t-BuMe2SiH, Pd/C, 苯，70℃。 【Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 2111 (1989)】 一、AcOH, THF, …

2022年8月3日 · 但当羟基位阻较大时则采用较强的硅醚化试剂TBSOTf来实现。生成的叔丁基二甲基醚在多种有机反应中是相当稳定的，在一定条件下去保护时一般不会影响其他官能团。它在碱性水解时的稳定性约为三甲基硅醚的104倍。它对碱稳定。相对来说对酸敏感些。TBS醚的 ...

苄基是常用的醚类保护基，通常利用Williamson合成法引入，由卤代烃和相应的醇钠在DMF或THF中反应而得。 实际合成中，根据不同羟基的酸性，选用合适的碱与BnCl或BnBr 反应。

2024年2月23日 · 当分子内没有对强酸敏感的官能基存在时，可用HCl-MeOH,HCl-Dioxane体系去除TBS，若有对强酸敏感的官能基存在时，则可选用AcOH-THF体系去除。 2.2.1通过TBSCl进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(J.Am.Chem.Soc.1972,94,6190)

TBS（TBDMS, 叔丁基二甲基），TBS基团是有机合成中常见的基团，利用TBS保护羟基的方法比较常见，下面介绍一下通过生成叔丁基二甲基硅酯，保护羧基的方法。 一、TBSCl，咪唑，DMF，室温，48h，产率88%。 【J. Am. Chem. Soc.,94, 6190 (1972)】 TBS保护羧基-二、吗啉，TBSCl，THF，室温，2min，收率80%。【Synthesis，701（1989）】三、t-BuMe2SiH, Pd/C, 苯，70℃。 【Bull. Chem. Socห้องสมุดไป่ตู้ Jpn., 62, 2111 (1989)】去保护：一、AcOH, …

TBS（TBDMS, 叔丁基二甲基），TBS基团是有机合成中常见的基团，利用TBS保护羟基的方法比较常见，下面介绍一下通过生成叔丁基二甲基硅酯，保护羧基的方法。 上保护： 一、TBSCl，咪唑，DMF，室温，48h，产率88%。【J. Am. Chem. Soc., 94, 6190 (1972)】

A sequential one-pot synthesis for the oxidation of primary and secondary tert-butyldimethylsilyl (TBDMS) ethers, using the presence of PhIO or PhI(OAc) 2 and catalytic amounts of metal triflates and TEMPO in THF or acetonitrile tolerates acid-sensitive protecting groups and leaves tert-butyldiphenylsilyl ethers and phenolic TBDMS groups untouched.