The SENDURO®MEMS is designed for fully automated, precise and repeatable measurement of film thickness, refractive index, and extinction coefficient of materials relevant to MEMS and sensor fabrication.

sentech senduro®mems是一款专为传感器、射频/功率器件、saw滤波器和mems生产中的质量控制而设计的全自动测量工具。 它采用光谱反射法和椭圆偏振法，能够灵活配置反射法和椭圆偏振法中的μ点测量，并结合边缘抓取技术实现非接触式背面保护。

Sendero Provisions Co. makes quality provisions inspired by the landscapes and cultures of the wild American West.

Das SENDuro ist für uns mittlerweile mehr als irgendein Bike – es ist ein Herzensprojekt, in das sehr viel Zeit in Form von Entwicklung, Testen, Verbessern, Grübeln, Diskutieren und Erklären geflossen ist.

senduro ® mems使用光谱反射法和椭偏法提供可靠且精确的膜层测量，非常适合优化测量速度，精度和光斑尺寸。 SENDURO ® MEMS 配备了反射仪并结合椭偏仪，基于最准确的步进扫描分析仪测量模式，可用于膜厚测量、光学常数(μ点)、以及基于多层堆栈的薄膜分析 ...

sentech senduro®mems 是一款全自动测量工具，用于传感器、射频/功率器件、saw 滤波器和 mems 生产中的质量控制。 该工具使用光谱反射法和椭圆偏振法对薄膜堆叠法进行可靠和精确的测量。

senduro® 可测量透明和反射基片上单层薄膜和层叠膜的折射率和厚度。senduro® 自动扫描则实现了较高的样品速度，化安装工作量和低的维护成本。该光谱椭偏仪的自动扫描具有预定义或用户定义的模式、允许广泛的统计特性和数据图形显示。

提供SENDURO 全自动光谱椭偏仪的详细技术参数,资料和实时价格,厂家有专业的德国SentechSENDURO销售和售后服务技术团队,德国Sentech是分析仪器和实验室仪器设备专业品牌供应商.

senduro. ® MEMS是MEMS和传感器生产中质量控制的非常经济的计量解决方案。 可以配置senduro ® MEMS根据生产控制和QC-开始具有最经济的反射测量测量。 更先进的层系统可能需要光谱椭圆件工具或甚至额外的光谱反射计。

The SENDURO® 300 is a new, powerful automated tool for the measurement of single films and layer stacks on silicon wafers of up to 300 mm diameter. Highlights and Advantages