相移掩模 - 百度百科
相移掩模（Phase Shift Mask, PSM）是同时利用 光线 的强度和相位来成像，得到更高分辨率的一种 分辨率 增强技术 [1]。 相移掩模是一项通过改变光束相位来提高 光刻分辨率，其基本原理 …
Photo Lithography 光刻工艺 （2) - 知乎 - 知乎专栏
2021年10月7日 · Phase Shift Mask (PSM) 相移掩模: 改变光束相位来提高 光刻分辨率。 其基本原理是通过改变掩膜结构，使得透过相邻透光区域的光波产生180度的相位差，二者在像面上特 …
相移掩模（PSM） - 知乎专栏
2025年1月9日 · OPC通过修改不透光或透光图形的几何形状来优化掩模图形，该技术不改变图形透射光的强度或相位。相移掩模（Phase Shift Mask, PSM）通过调整掩模图形透射光的相位与 …
Phase-shift mask - Wikipedia
Phase-shift masks are photomasks that take advantage of the interference generated by phase differences to improve image resolution in photolithography. There exist alternating[1] and …
光罩（Mask）——集成电路制造的核心工具 - 知乎
相移光罩 （Phase-Shift Mask, PSM） 特点：在光罩上加入相位控制材料，使光的相位发生偏移，以增强图案的分辨率。 原理：不仅通过光的强度对图案成像，还通过光的相位干涉提高精度。
【光刻】相移掩模 Phase Shift Mask (PSM) - Chip Manufacturing
相移掩模（Phase Shift Mask, PSM）是同时利用光线的强度和相位来成像，得到更高分辨率的一种分辨率增强技术 [1]。 相移掩模种类很多，其改善光刻分辨力的机理和能力也有差异，但其 …
Phase-Shift Masks - SPIE
Phase-shift masks (PSMs) work by adding phase information to the mask in addition to amplitude information. A binary chrome-on-glass mask encodes the information about where to position …
微影制程之《Mask/Reticle》篇 （转） - 智于博客
2019年6月14日 · 所以我们引入了光学相位转移光罩(PSM: Phase-Shift Mask)，在每个相邻的透光区加入一个相位转换材料(Light shifter)，一般选择MoSiON等半透明材料(透光率10%)，通过 …
光罩（Mask）的系统性讲解 - slkormicro.com
2025年3月27日 · 光罩（Mask），也称为掩膜版，是集成电路（IC）制造过程中核心且关键的元件之一。 作为光刻技术的核心工具，光罩将设计好的电路图案转移到晶圆表面，其质量直接决 …
先进相移掩模(PSM)工艺技术 - 百度文库
相移掩模是在一般二元掩模中增加了一层相移材料，通过数据处理、电子束曝光、制作二次曝光对准用的可识别标记、二次曝光、显影、刻蚀，并对相移、缺陷等进行分析和检测，确保能达到 …