CVD硅碳负极深度报告：快充引领技术迭代更新速度加快
2024年12月27日 · Group14公司率先采用气相沉积CVD法制备出性能优异的新型硅碳复合材料。 2021年4月，Group14旗舰产品“硅碳复合负极材料SCC55TM”在全球首家同类BAM工厂（电池 …
硅碳负极专题：CVD技术利刃破局，2025年放量起航-研究报告正 …
2025年1月28日 · 当前硅基负极产能以硅氧及球磨法硅碳为主，CVD法产能规划中，海外Group14已量产，天目先导、兰溪致德等初创公司具备百吨级产能，贝特瑞、璞泰来等传统负 …
回转炉及CVD制备硅碳负极材料工艺路线介绍 - 艾邦锂电网
cvd硅碳负极路线，通过化学气相沉积，在接孔碳里面用硅烷做化学气象沉积，即将硅材料嵌入碳材料中，形成硅碳复材料，可以有效减少体积膨胀。 欢迎大家申请加入硅碳负极微信群。
12 种化学气相沉积 (Cvd) 技术的全面概述 - Kintek Solution
热丝化学气相沉积 (HFCVD) 是一种在高温、低压条件下运行的专业 CVD 方法，主要用于生产致密薄膜，尤其是金刚石薄膜。 该工艺包括在高温下对甲烷（CH₄）等碳氢化合物进行热分解，以 …
负极材料“换代”？——CVD气相沉积硅碳技术_锂电中国
2024年4月3日 · Group 14采用的是一种新型的气相沉积硅碳技术，核心是通过多孔碳骨架来储硅，先用高分子材料制造出类似海绵一样具有多孔结构的碳颗粒，然后向多孔碳颗粒的孔隙里通 …
化学气相沉积设备 - 产品系列 - 北方华创 - NAURA
化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。 典型的CVD工艺过程是把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面 …
cvd需要满足以下三个基本需求:控制传输气体和晶圆进出反应室并处理气体副产物,提供激发化学 反应的能量,精确控制反应温度、压力和气体流量。 其中反应室是最重要的核心部件,反应室的作 …
一文读懂气相化学沉积（CVD） - 知乎专栏
化学气相沉积（cvd）被定义为由于气相化学反应而在基体表面上沉积固体薄膜，是一种薄膜工艺，其中沉积物质通常是原子、分子或两者的组合。 一般来说，通过吸附气相前驱体的表面介 …
【芯片制造与封测】第六讲：化学气相沉积CVD - CSDN博客
2025年1月2日 · CVD (chemical vapor deposition 化学气相沉积):利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。 具体的有如MO CVD （金属 …
【MEMS工艺】三种常见CVD技术，你知道的有哪些？
2024年11月4日 · hdp-cvd，即高密度等离子体化学气相沉积，是一种特殊的pecvd技术。 它能够在较低的沉积温度下产生比传统PECVD设备更高的等离子体密度和质量。 此外，HDP-CVD提 …