日本Rapidus公司宣布在北海道工厂计划部署10台EUV设备，并联合美国博通公司推进2nm芯片的量产，这一举措旨在重振日本本土的半导体制造能力。曾经的日本半导体产业辉煌一时，在全球市场占据重要份额。此次Rapidus的行动，是日本试图在半导体高端制 ...

来源：内容编译自日经，谢谢。 据日经新闻获悉，荷兰先进芯片制造设备供应商 ASML Holdings 计划在未来几年将其驻日本机器维护人员增加五倍。 ASML 是极紫外 (EUV) 光刻设备的唯一制造商，该设备对于制造尖端芯片至关重要。去年 12 月 ...

在竞争对手增强生产能力的同时，美光对EUV采取了谨慎的态度。 美光公司上个月推出了第六代DRAM的原型，成为存储器半导体行业中第一个推出第六代DRAM的厂商，而美光公司的DRAM设计和制造工艺与三星电子和SK海力士有着明显的区别，这有望成为三家公司在即将 ...

公司计划通过减少 EUV 的使用，来加速量产尖端 DRAM。 IT之家援引博文介绍，美光选择减少对 EUV 的依赖，转而更多采用成熟的氩氟浸没式光刻（ArFi）工艺。 根据 ASML 的数据，下一代深紫外光刻（DUV）系统使用 193 纳米波长的氩氟激光，可实现 38 纳米特征尺寸的 ...

在半导体产业的瞬息万变中，人工智能芯片的需求如同陡峭的山峰，直线上升。然而，极紫外光刻（EUV）技术的高昂成本和复杂工艺，使得这一前沿技术面临瓶颈，成为少数公司的私享资源。为了满足多样化的人工智能应用，市场对先进制程芯片的需求呈现狂飙的趋势，迫使整个行业承受巨大的供应压力。无论是支撑大型语言模型的庞大数据中心，还是智能手机、物联网设备中的边缘人工智能，前沿半导体技术的应用场景正在快速拓展。

美光1γ DRAM是该公司首次采用EUV光刻的制程，其他领先的DRAM制造商数年前就已导入EUV。虽然美光较晚采用，但1γ制程相较于现有产品线具备显著优势。

在竞争对手增强生产能力的同时，美光对EUV采取了谨慎的态度。 美光公司上个月推出了第六代DRAM的原型，成为存储器半导体行业中第一个推出第六 ...

美光执行副总裁兼首席技术与产品官 Scott DeBoer 表示：「美光在开发专有 DRAM 技术方面的专业知识，加上我们对 EUV 光刻技术的战略性使用，已形成 ...

与美光不同，三星和 SK 海力士在 DRAM 技术发展中更依赖 EUV 层。三星自 2020 年起在内存生产中采用 EUV，计划在其第 6 代 10 纳米 DRAM（1c）中应用超过 ...

因此，它将成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。 美光DRAM终于用上EUV 今年2月25日，美光推出了采用全新1γ (1-gamma) 、第六代（10nm 级 ...

High NA EUV突破：英特尔季产3万片，imec 20nm良率90%，美光首用DRAM。 EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要 ...

美光确实表示 1γ 将 EUV 与多重图案化 DUV 技术结合使用。此外，美光的 1γ DRAM 工艺技术采用了下一代高 K 金属栅极技术和全新的后端 (BEOL) 电路。